三星得州泰勒厂启动EUV光刻机调试，2nm产线迈向试运营
2026/04/07 14:29阅读量 3
三星电子位于美国得克萨斯州泰勒市的2nm晶圆厂已正式进入试运营阶段，核心设备EUV（极紫外）光刻机的测试工作现已启动。目前，蚀刻和沉积流程的主要设备也正分阶段导入该工厂，旨在为今年内的初步运营及2027年的全面投产做准备。此举标志着三星在先进制程量产布局上取得关键进展。
事件概述
三星电子位于美国得克萨斯州泰勒市的逻辑厂（2nm晶圆厂）已进入试运营阶段。作为全球领先的半导体制造设施之一，该工厂正加速推进关键设备的部署与调试工作。
核心信息
- EUV光刻机调试：极紫外（EUV）光刻机的测试工作已经正式启动，这是实现2nm及以下先进制程的关键环节。
- 其他设备导入：蚀刻（Etching）和沉积（Deposition）流程所需的主要设备正在分阶段导入生产线。
- 时间节点规划：
- 当前阶段：设备调试与试运营准备。
- 近期目标：争取在今年内实现初步运营。
- 远期目标：计划于2027年实现全面投产。
行业背景
该工厂的进展是三星巩固其在先进制程领域竞争力的重要举措。随着2nm工艺技术的引入，三星旨在通过泰勒工厂提升产能并满足市场对高性能芯片日益增长的需求。