三星平泽P5晶圆厂PH1阶段订购70余台光刻机，备战2027年投产
2026/04/07 10:49阅读量 2
三星电子已为平泽半导体生产基地P5晶圆厂集群的首个阶段（PH1）下达了70余台光刻机订单，旨在为该阶段2027年的投运做准备。这批设备由ASML和佳能提供，其中约20台为ASML的EUV曝光系统。该产线将用于生产1c nm制程DRAM，涵盖通用内存及HBM产品。
事件概述
三星电子已正式为平泽半导体生产基地P5晶圆厂集群的首个阶段（PH1）下达光刻机采购订单，预计该阶段将于2027年投入运营。
核心信息
- 订单规模：共计70余台光刻机。
- 供应商构成：设备来自ASML和佳能（Canon）。
- 关键设备细节：其中约20台为ASML提供的EUV（极紫外）曝光系统。
- 技术路线与用途：P5 PH1阶段将专注于1c nm制程DRAM的生产，产品范围包括通用内存和高带宽内存（HBM）。
背景补充
此次扩产是三星在先进存储芯片领域的重要布局，旨在满足市场对高性能存储解决方案日益增长的需求。